多电子束聚焦装置.pdfVIP

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  • 2023-02-17 发布于四川
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本实用新型公开了一种多电子束聚焦装置,该系统包括用以产生电子束的热或冷场发射阴极电子源和栅极、电子束分束的分束器、提高电子束能量的加速透镜、提高电子束质量的消相差透镜、对各电子束束斑的高分辨物镜阵列、对电子束位置进行微调的电子束偏转器以及控制电子束通过的束闸,以便于对电子束的精准控制,因此在相同面积的圆晶上可以容纳数量更多的电子束实现同时曝光,提高了集成电路加工应用中的精度和速度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212648184 U (45)授权公告日 2021.03.02 (21)申请号 202021684033.X (22)申请日 2020.08.13 (73)专利权人 深圳市奥谱太赫兹技术研究院

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