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光刻设备.pdfVIP

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  • 2023-02-17 发布于四川
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光刻设备.pdf

    本实用新型公开一种光刻设备，用以在一转印滚轮的外表面曝光，光刻设备由左至右依次包括：一曝光装置、一半波片、一空间滤波器、一准直透镜、一分辨率光罩、一会集透镜、一光晕消除装置、以及一四分之一波片。曝光装置用来投射波长范围300纳米(nm)至450纳米(nm)的一激光图像；半波片用来调整激光图像的偏振状态；空间滤波器用来减少光刻设备的空间噪声；分辨率光罩用来提升激光图像的分辨率；四分之一波片用来调整激光图像的偏振状态；光晕消除装置用来减弱通过会集透镜的主光轴的激光图像的能量。借由“光晕消除装置用来减

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212647261 U (45)授权公告日 2021.03.02 (21)申请号 202021729021.4 (22)申请日 2020.08.18 (73)专利权人 光群雷射科技股份有限公司

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