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- 2023-02-18 发布于北京
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本公开提供一种阵列基板的制备方法及显示面板的制备方法,属于显示技术领域。本公开的阵列基板的制备方法包括:在基底上形成第一导电部;在第一导电部背离基底的一侧依次形成第一绝缘层、第二绝缘层和第三绝缘层;通过一次构图工艺形成贯穿第三绝缘层、第二绝缘层和第一绝缘层的第一部分的第一子过孔,第一绝缘层的第一部分具有第一厚度;第一子过孔位置处剩余的第一绝缘层的厚度为第二厚度;在第三绝缘层背离基底的一侧形成第四绝缘层;刻蚀去除第一子过孔处的第四绝缘层和第二厚度的第一绝缘层,形成第一过孔,第一过孔露出第一导电部;
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115701882 A
(43)申请公布日 2023.02.14
(21)申请号 202110811863.7
(22)申请日 2021.07.19
(71)申请人 福州京东方光电科技
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