1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

气体处理装置和基片处理装置.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约2.68万字
  • 约 24页
  • 2023-02-22 发布于四川
  • 举报

气体处理装置和基片处理装置.pdf

    本实用新型提供能够减少溶解液的使用量的气体处理装置和基片处理装置。气体处理装置包括管道、分隔板和液供给部。管道在内部具有供气体通过的流路。分隔板是将流路分隔为多个空间的分隔板，由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对分隔板供给能够溶解气体中包含的对象成分的溶解液。并且，气体处理装置使通过流路的气体与被保持在分隔板中的溶解液接触。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218485582 U (45)授权公告日 2023.02.17 (21)申请号 202221337643.1 (22)申请日 2022.05.31 (30)优先权数据

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >