一种薄膜沉积设备用基座支撑机构.pdfVIP

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  • 2023-02-22 发布于四川
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本实用新型公开了一种薄膜沉积设备用基座支撑机构,包括有反应箱室、基座和支撑管,基座的背面在支撑管的两侧分别固定连接有左散热板和右散热板,反应箱室内的底面上在支撑管的两侧分别设有左底座和右底座,左散热板的一侧与左底座之间转动连接有左支撑连杆组,右散热板的一侧与右底座之间转动连接有右支撑连杆组。本实用新型在基座的背面设置散热板,并在散热板与反应箱室的内底面之间设置包括有四个连杆组合成菱形结构的支撑连杆组,取代了由传统的普通陶瓷的托架对基座的支撑,既具有很高的导热性能,有利于基座的散热,又能够随升降的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212770953 U (45)授权公告日 2021.03.23 (21)申请号 202021402630.9 (22)申请日 2020.07.16 (73)专利权人 合肥微睿光电科技有限公司

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