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本实用新型公开了一种等离子体处理装置，其包含：真空反应腔；上电极组件，位于所述真空反应腔顶部；下电极组件，位于所述真空反应腔底部，所述下电极组件和所述上电极组件相对设置，所述下电极组件包含一承载面，用于承载晶圆；气体喷淋环，环绕设置在所述下电极组件的外侧，所述气体喷淋环包含若干个气体供应孔，所述气体供应孔与一反应气体输送装置相连，用于将反应气体输送到所述真空反应腔内部，以在所述上电极组件和所述下电极组件之间产生等离子体。其优点是：该装置通过气体喷淋环实现反应气体的输送，不会因为上电极组件等的安装
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212750803 U
(45)授权公告日 2021.03.19
(21)申请号 202022326800.6
(22)申请日 2020.10.19
(73)专利权人 中微半导体设备（上海）股份有限
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
版权声明书
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