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本实用新型涉及大面积薄型产品的真空吸附装置，包括平面吸附组件，平面吸附组件一侧大平面上密集开设有多个吸附孔，平面吸附组件上还安装有两个以上连接件，各个吸附孔均与至少一个连接件相通；还包括主阀体，主阀体上并列安装有真空吸附阀组和防憋气阀组，真空吸附阀组与各个连接件连通，主阀体的主出气口与吸气机构的吸气口连通；真空吸附阀组或者防憋气阀组经主阀体与吸气机构相通；通过真空吸附阀组和防憋气阀组的设置，能够在吸气机构持续开启工作的状态下，实现平面吸附组件在真空吸附和破真空之间的频繁切换，从而有效实现大面积薄
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218503956 U
(45)授权公告日 2023.02.21
(21)申请号 202222962664.9
(22)申请日 2022.11.07
(73)专利权人 锡凡半导体无锡有限公司
地址 2
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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