- 0
- 0
- 约5.39千字
- 约 7页
- 2023-02-27 发布于北京
- 举报
本实用新型公开了一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转主轴,包括固定座以及位于所述固定座内的主轴本体;所述固定座包括上固定座与下固定座,所述上固定座内设置有上层轴承与上层油封,所述下固定座内设置有下层轴承与下层油封,所述主轴本体贯穿所述上固定座与所述下固定座,所述上层轴承及所述上层油封均与所述主轴本体的上半部分位置对应,所述下层轴承及所述下层油封均与所述主轴本体的下半部分位置对应。本实用新型的主轴本体采用上层轴承与下层轴承进行导向,保证了主轴本体的旋转跳动精度,上层油封与下层油封则保证了真空的密封性,分水
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212991067 U
(45)授权公告日 2021.04.16
(21)申请号 202021974245.1
(22)申请日 2020.09.10
(73)专利权人 苏州汉立光电科技有限公司
原创力文档

文档评论(0)