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本实用新型涉及磨抛技术领域,具体涉及一种硅棒磨抛一体装置,包括打磨块、第二滑块、蓄液池和第二固定板,所述第二滑块的一端设置有第一连接杆,所述电动伸缩杆的底端设置有打磨块,所述蓄液池的内部放置安装有小型吸水泵,所述小型吸水泵的一端连接有导管,所述第二固定板的顶端通过转轴设置有抛光轮。本实用新型通过设置有第一连接杆、打磨块、导管和抛光轮,使硅棒打磨装置和硅棒抛光装置一体化,在打磨完成后可在同一工作平台进行抛光处理,节省了工作人员的时间和精力,避免了工作人员在移动硅棒时对其造成损坏的可能,增加了装置的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212947050 U
(45)授权公告日 2021.04.13
(21)申请号 202021982073.2 B24B 57/02 (2006.01)
(22)申请日 2
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