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衬底台、光刻设备和液体限制系统.pdfVIP

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  • 2023-03-02 发布于北京
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衬底台、光刻设备和液体限制系统.pdf

    公开了一种衬底台、一种光刻设备和一种液体限制系统。提供了一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；和液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中。所述衬底台包括：衬底保持器，配置成保持衬底；和电流控制装置，布置成在所述浸没液体被限制在所述空间中的同时减小在所述衬底和所述衬底保持器之间流动的电流。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213122596 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 201922170733.0 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任

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