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- 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型公开了一种用于绝缘瓷环的清洗系统，属于多晶硅生产技术领域，包括用于浸泡绝缘瓷环的浸泡池、用于清洗从浸泡池取出后的绝缘瓷环的清洗池、以及用于烘干清洗后绝缘瓷环的烘干装置，所述清洗池包括至少两个清洗槽，所述两个清洗池分别为一级清洗槽和二级清洗槽，所述一级清洗槽和二级清洗槽之间设置有溢流管I，所述一级清洗槽上端连接有补水管I；下端开设有出水口I，所述二级清洗槽上端连接有补水管II；下端开设有出水口II，解决了现有技术中清洗绝缘瓷环不完全，且工作繁琐，需耗费大量水资源的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213194799 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202021857853.4
(22)申请日 2020.08.31
(73)专利权人 四川永祥新能源有限公司
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