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化学机械研磨抛光机台.pdfVIP

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  • 2023-03-05 发布于北京
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化学机械研磨抛光机台.pdf

    一种化学机械研磨抛光机台，涉及半导体技术领域，该化学机械研磨抛光机台包括机台本体和盖板，机台本体具有一带有开口的腔室，开口的边缘设置有密封槽，盖板的边缘设置有密封圈，盖板盖合在开口上并覆盖密封槽，密封圈压合在密封槽的底壁和盖板之间，以使盖板和机台密封连接，盖板上还设置有抽气结构，抽气结构与密封槽连通，用于对密封槽抽气，以防止密封槽内的气体泄漏到外部。相较于现有技术，本实用新型可通过抽气结构的抽气动作将泄漏气体从密封槽中抽走，防止腔室内部的气体由密封槽泄漏到外部，防止腔室内部气体大量外泄，有效防止

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213197048 U (45)授权公告日 2021.05.14 (21)申请号 202022038604.9 (22)申请日 2020.09.16 (73)专利权人 泉芯集成电路制造(济南)有限公

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