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- 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型公开了一种晶圆清洗设备的双面清洗组件，包括周向设置的三个U型轮，其中一个所述U型轮设置在导轨上，可以横向移动，其中一个所述U型轮与电机连接驱动，三个所述U型轮间固定设置有待加工晶圆，所述待加工晶圆远离导轨的一侧设置有清洗组件，所述清洗组件包括两个清洗棒，两个所述清洗棒分别位于所述待加工晶圆的上方和下方。通过本装置可以实现对晶圆的双面清洗，效率较高，且相比于现有的结构，本装置的两个清洗棒通过同一个电机控制对称移动，效果好且操作简单，只需要控制一边即可。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213212120 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202022091838.X
(22)申请日 2020.09.22
(73)专利权人 苏州思达优科技有限公司
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