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- 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型公开了一种高压清洗收集设备,与高压清洗机相对应,包括收集机构和设置在收集机构下方的收集箱体;所述收集机构包括对应高压清洗机的出料槽,出料槽的下方设置有伸缩式收集槽;所述高压清洗机上安装有支架,支架连接伸缩式收集槽;所述伸缩式收集槽的外侧端部横向安装有横板,横板上安装有挡板,挡板竖向向下设置且对应伸缩式收集槽的外侧端部。本实用新型保证了配件的收集和计数,无需人工再次统计,省时省力,劳动效率大大提高。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213211068 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202022440965.6
(22)申请日 2020.10.28
(73)专利权人 德欧泰克半导体(上海)有限公司
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