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- 2023-03-07 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶片清洗装置,包括机体,所述机体的顶部外壁设置有进料口,进料口的一侧内壁设置有两个导向辊;所述机体的顶部内壁设置有两个导向软板;所述机体的一侧外壁通过顶板固定有电机,机体的一侧内壁设置有两个滚动轮,两个滚动轮的外壁设置有同一个传送带,传送带的外壁设置有两个固定座,两个固定座的一侧内壁均设置有四个以上的弹簧,四个以上的弹簧另一端均设置有同一个夹持座,两个夹持座的内壁均设置有四个以上的橡胶辊;所述机体的一侧内壁设置有清洗结构;所述清洗结构包括两个液体箱和两个清洗组件。本实用新型晶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213278031 U
(45)授权公告日 2021.05.25
(21)申请号 202022758267.0
(22)申请日 2020.11.25
(73)专利权人 金华市创捷电子有限公司
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