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- 2023-03-08 发布于四川
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本实用新型具体涉及一种精密真空镀膜系统,本精密真空镀膜系统包括:镀膜环境控制装置,用于输出氩气;和镀膜装置,连接所述镀膜环境控制装置,用于真空中产生电场电离氩气产生氩离子轰击靶材表面,使靶材发生溅射;传动装置,用于接收溅射出的靶材以对物料进行镀膜,并夹持物料转动,以使溅射出的靶材覆盖物料表面;以及监测控制装置,连接所述镀膜装置,用于采集镀膜装置工作参数,并根据镀膜装置工作参数控制镀膜环境控制装置的氩气输出量;本实用新型通过电场电离氩气产生氩离子轰击靶材表面,使靶材溅射至物料表面进行镀膜,实现磁控
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213327812 U
(45)授权公告日 2021.06.01
(21)申请号 202022197303.0
(22)申请日 2020.09.29
(73)专利权人 亚芯半导体材料(江苏)有限公司
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