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光刻系统.pdfVIP

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  • 2023-03-08 发布于四川
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光刻系统.pdf

    本实用新型公开一种光刻系统。光刻系统包括一第一无尘腔体、设置于第一无尘腔体中的一光阻涂布装置、一第二无尘腔体、设置于第二无尘腔体中的一固化装置、设置于第二无尘腔体中的一显影设备、设置于第二无尘腔体中的一蚀刻设备、以及一推车。本实用新型所提供的光刻系统能通过“第一无尘腔体以及第二无尘腔体用来避免金属滚轮被环境中的污染源黏附”的技术方案，以避免金属滚轮被环境中的污染源污染，并使金属滚轮的制造良率大幅提升。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213302760 U (45)授权公告日 2021.05.28 (21)申请号 202022601700.X (22)申请日 2020.11.11 (73)专利权人 光群雷射科技股份有限公司

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