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千里之行，始于脚下。 第 PAGE2 页/共 NUMPAGES2 页 精品文档推荐 真空镀膜与光学镀膜对比 真空镀膜主要利用辉光放电(glow  discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,  靶材的原子被弹出而积累在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、匀称度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢无数。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,  造成靶与氩气离子间的撞击机率增强,  提高溅镀速率。普通金属镀膜大都采纳直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF沟通溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光