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- 2023-03-10 发布于北京
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本申请涉及涂布机的领域，尤其是涉及一种具有通用功能的晶圆片涂布机，其包括容纳架，容纳架上设置有第一放置支架和第二放置支架，第一放置支架和第二放置支架之间形成用于放置晶圆片的放置空间；第一放置支架和第二放置支架均水平滑动设置在容纳架上，第一放置支架和第二放置支架的滑动方向相反。本申请具有提高晶圆片涂布机的适用范围的效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213409275 U
(45)授权公告日 2021.06.11
(21)申请号 202022246768.0
(22)申请日 2020.10.10
(66)本国优先权数据
2020221
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