泓域咨询/青海HJT靶材研发项目建议书
报告说明
靶材的核心需求是高密度、高纯度、高均匀性。进风温度、烧结升温速率、成型压力、粘结剂、分散剂、稳定剂含量等均会影响靶材的性能。不同应用领域对靶材材料的选择和性能要求存在差异,其中半导体靶材的技术和纯度要求高,平板显示器靶材的材料面积和均匀度要求高。目前对溅射靶材的研究朝着多元化、高纯度、大型化、高溅射速率、高利用率等方向进行。ITO靶材本质属于陶瓷,内部晶体结构需要工艺技术搭配出来,对透光率、导电率、硬度、平整度、纯度都有要求,比金属靶材的工艺更为复杂,技术壁垒较高。
根据谨慎财务估算,项目总投资1646.28万元,其中:建设投资1052.33万
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