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- 2023-03-13 发布于四川
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本实用新型属于真空镀膜领域，涉及一种真空镀膜机，包括真空腔、成膜伞架、基片、蒸发源以及支撑杆，成膜伞架具有伞状结构且设置于真空腔的顶部，基片可拆卸地悬挂于成膜伞架的下表面，蒸发源设置于成膜伞架下方，支撑杆的一端固定于真空腔侧面且另一端延伸进入成膜伞架和蒸发源之间的空间，支撑杆上安装有阻隔板，阻隔板的上表面与成膜伞架的下表面平行。本实用新型提供的真空镀膜机能够修正成膜伞架不同位置处光学薄膜的颜色以及光谱波长的差异，使得同一批次光学薄膜的颜色基本一致，光谱波长的波动范围能够控制在2nm以内，提升成膜
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213538077 U
(45)授权公告日 2021.06.25
(21)申请号 202022292893.5
(22)申请日 2020.10.15
(73)专利权人 厦门美澜光电科技有限公司
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