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化学气相沉积法制备tib2涂层工艺的研究 TiB2涂层是金刚石相关的一种重要材料，在制造刀具、锻件、磨具等方面有广泛的应用。由于TiB2涂层的超硬性和耐磨性，它在冶金、军工、制造等行业具有较强的应用。涂层工艺是当今研究TiB2涂层制备最主要的方法之一。本文主要研究以化学气相沉积法（CVD）制备TiB2涂层工艺，优化制备条件，进行表面形貌分析和抗冲击性能分析，为CVD工艺制备TiB2涂层提供参考。 实验采用等离子体源直接化学气相沉积TiB2涂层，选择TBC（四乙基氧烷）为气体源。实验的研究对象是TiB2涂层的表面形貌和抗冲击性能。实验期间调整工艺参数，调整反应时间、气压、温度等因素，以改善TiB2涂层的品质。 实验结果表明，在实验室的条件下研究的TiB2涂层是一种均匀、光滑的表面形貌，它具有良好的抗冲击性能，表明本工艺可以制备出制造在各种应用领域中需要抗冲击性能的TiB2涂层。 综上，以CVD工艺制备TiB2涂层具有均匀光滑的表面形貌及良好的抗冲击性能，因此在制备TiB2涂层工艺上提供了有效的参考。但本工程只是一个初步性的实验，在未来应进一步优化工艺参数，提升TiB2涂层上面各种特性性能，以满足现实应用需求。