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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型公开一种MOSFET扇出型封装结构,其中,MOSFET扇出型封装结构包括:第一塑封层,第一塑封层沿其厚度方向开设有通孔,通孔由上下两个小孔端相邻的锥形孔连通而成;封装于第一塑封层内的MOSFET,位于MOSFET一侧的第一I/O口和位于MOSFET另一侧的第二I/O口分别外露于第一塑封层;导电柱,填充于通孔内;第一电连接结构,位于第一塑封层的一侧并与导电柱的一端以及第一I/O口连接;第二电连接结构,位于第一塑封层的另一侧并与导电柱的另一端以及第二I/O口连接。本实用新型通过激光双面钻锥
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213583763 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202022481042.5 H01L 23/482 (2006.01)
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