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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型提供了一种接地环及等离子体处理装置,在接地环上设置连接体,通过调节连接体个数和/或更换不同宽度的连接体和/或调节所述连接体的可分离连接的端部与环体之间的间隙宽度,改善了射频分布,有效的保证了刻蚀速率的均匀性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213546262 U
(45)授权公告日 2021.06.25
(21)申请号 202023151683.0
(22)申请日 2020.12.24
(73)专利权人 中微半导体设备(上海)股份有限
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