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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型公开了半导体材料加工技术领域的一种碲镉汞外延薄膜背面残液清洗装置,包括底板,所述底板的顶部一侧固定连接有电动伸缩杆,通过启动第一电机,使得第一电机带动主皮带轮转动,并通过皮带带动从皮带轮转动,进而带动第一丝杆转动,使得滑动底座可以在第一丝杆上水平移动,然后再通过向上拉动限位板,使得限位板可以对限位弹簧形成一个向上的压迫力,利用限位弹簧提供的反向作用力,使得限位板可以将碲镉汞外延薄膜紧密固定,从而可以对不同长度不同厚度的碲镉汞外延薄膜进行固定,且固定过程中采用机械化操作,减少了大量的固定
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213561842 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202022435344.9
(22)申请日 2020.10.28
(73)专利权人 云
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