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本实用新型属于地下工程技术领域，涉及一种土岩二元基坑中明暗挖结合地下结构，包括明挖围护结构、明挖部分主体结构和暗挖部分横扩结构；明挖围护结构的底部伸入土岩二元基坑的微风化岩层内，明挖围护结构内施工有明挖部分主体结构；明挖部分主体结构最下面一层的侧墙外侧的微风化岩层坑壁横向扩挖形成横向扩挖地下空间，横向扩挖地下空间内施工有暗挖部分横扩结构；明挖部分主体结构最下面的一层与暗挖部分横扩结构横向连通。本实用新型在明挖部分主体结构施工后，对明暗挖结合部位进行横向扩挖施工暗挖部分横扩结构，暗挖部分横扩结构处
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213597034 U
(45)授权公告日 2021.07.02
(21)申请号 202021365253.6 E21D 9/14 (2006.01)
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