一种受热均匀的平板瓦烧制装置.pdfVIP

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  • 2023-03-18 发布于北京
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本实用新型涉及平板瓦技术领域,且公开了一种受热均匀的平板瓦烧制装置,包括机体,所述机体的底部固定连接有支撑桩,所述机体的右侧通过合页铰接有机门,所述机体的内侧与机门的正面均固定连接有隔热层,所述机门的背面固定连接有观察窗,所述机体的顶部固定连接有出气管,所述出气管的内侧固定连接有过滤层,所述隔热层的内顶壁固定连接有轴承,所述机体的顶部固定安装有电机,所述电机的输出轴固定连接有转轴,所述转轴的底部固定连接有筛箱。该受热均匀的平板瓦烧制装置,能够有效提高平板瓦的受热均匀,从而避免烧制硬度不均匀,并且

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213687852 U (45)授权公告日 2021.07.13 (21)申请号 202022970633.9 (22)申请日 2020.12.10 (73)专利权人 湖北润长佳工艺陶瓷有限公司

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