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- 2023-03-18 发布于北京
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本实用新型公开了一种发光装置,包含发光元件、基体、光转换层、光反射层和光透过层,发光元件设于所述基体上,光反射层设于发光元件的四周和基体的上表面,光反射层的上表面设有凹槽,光转换层包括第一光转换层和第二光转换层,光透过层包括第一光透过层和第二光透过层,第一光转换层和第一光透过层设于凹槽内,第二光转换层设于发光元件的上表面及光反射层的上表面,第二光透过层设于第二光转换层的上表面、光反射层的上表面及第一光透过层的上表面。设置的环形的凹槽结构,对光转换层的形状进行了限制,可以保证光转换层的均匀性和形状
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213692047 U
(45)授权公告日 2021.07.13
(21)申请号 202022822624.5 H01L 33/60 (2010.01)
(22)申请日 2
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