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聚合物离子溅射刻蚀代加工 聚合物离子溅射刻蚀技术(Plasma Ion Sputtering Etching, PISE) 是一种新出现的表面处理技术，主要用于塑料、氟树脂、硅、非晶态材料的表面处理。 聚合物离子溅射刻蚀技术是在原始加工引入刻蚀相的情况下应用PBT（聚丙烯基烯醇）进行刻蚀处理，PBT具有良好的溶度能够穿透到细小毛细管，协助催化剂反应。因此，聚合物离子溅射刻蚀技术可以将质子在原始加工的表面上形成一个有序的相互作用网络，形成细小的焊点，从而获得超出原始加工的足够的细节性能。 同时，聚合物离子溅射刻蚀技术还可以减少原始加工中所用工具设备的数量，节省精度调整和振动加工成本。该技术不仅可以使整体刻蚀工艺达到最优化结果，还可以提高原始加工表面或表面性能， 如耐腐蚀性和磨耗性。 从实验室研究可以看出，聚合物离子溅射刻蚀技术比传统的刻蚀技术具有更好的加工精度和工程应用灵活性。因此，聚合物离子溅射刻蚀技术可成功应用于无法用传统技术处理的材料，如凹凸表面、复杂结构、精细表面细节等。 聚合物离子溅射刻蚀能够满足几何尺寸和图案复杂性的各种需求，其宽频率、分辨率和处理深度也是通用的，因此可以根据不同的材料、结构、性能等方面自由组合。整体聚合物离子溅射刻蚀技术可以快速、有效地处理复杂的表面结构。 聚合物离子溅射刻蚀技术不仅能够使表面粗糙度降低，而且还可以改善表面的抗腐蚀性和磨耗性，从而提高精度和密封性，并延长工件的寿命。此外，由于聚合物离子溅射刻蚀所施加的负载量很小，因此设备可以保持稳定工作状态。 总之，聚合物离子溅射刻蚀技术作为一种新型表面处理技术，可以有效改善原始加工表面结构，从而获得更高的表面精度和性能，提高了加工的可靠性。