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一种硅片曝光结构.pdfVIP

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  • 2023-03-22 发布于四川
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一种硅片曝光结构.pdf

    本实用新型公开了一种硅片曝光结构，包括定位组件、曝光组件，所述定位组件包括定位条组、紧固螺丝组，所述曝光组件包括蓝膜、上层光刻版、下层光刻版、硅片，在运载硅片过程中，使用定位组件定位下层光刻版与蓝膜位置，使用蓝膜定位固定硅片与托载的光刻版，通过蓝膜产生的固定间隙，将正性光刻胶曝光过程中释放的N2有效排出，使表面压力达到平衡，因此，硅片下表面与光刻版之间无法在曝光过程中产生相对位移，保证了曝光过程中的工艺质量。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213814292 U (45)授权公告日 2021.07.27 (21)申请号 202022788025.6 (22)申请日 2020.11.27 (73)专利权人 吉林瑞能半导体有限公司

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