光产酸剂及光刻工艺对KrF光刻胶性能影响研究.docxVIP

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2023-03-30 发布于北京
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光产酸剂及光刻工艺对KrF光刻胶性能影响研究光产酸剂及光刻工艺对KrF光刻胶性能影响研究摘要：本文研究了光产酸剂及光刻工艺对KrF光刻胶性能的影响。通过对光产酸剂的种类及用量、光刻前处理条件、光刻曝光参数等因素进行研究和对比，得出了不同条件对KrF光刻胶的影响规律，并提出了优化方案。结果表明，光产酸剂的用量与种类对胶层的敏感度、曝光剂量及图形的解析度有重要影响。光刻前处理条件对胶层的平整度、表面的粘着性等参数有不同程度的影响。对于光刻曝光参数，曝光剂量、曝光时间、曝光方式等因素直接影响图形的分辨率、边缘质量等性能指标。根据实验结果，提出了相关的优化方案，旨在提高KrF光刻胶的性能及图形的