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- 2023-03-27 发布于四川
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本实用新型提供了一种研磨垫及具有其的研磨装置。该研磨垫具有相对的非工作面和工作面,工作面具有旋转中心且工作时沿旋转中心周向旋转,工作面具有至少一个第一区域,在由旋转中心指向工作面的边缘的方向上,第一区域的第一长度由L1递增至L2并由L2递减至L3,第一长度为第一区域沿旋转方向的长度,工作面中除第一区域之外的区域为第二区域,位于第一区域中的工作面与非工作面之间的最大垂直距离为H1,位于第二区域中的工作面与非工作面之间的最大垂直距离为H2,H1<H2。上述研磨垫能够沿晶圆的边缘向中心区域的方向逐渐降
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213946060 U
(45)授权公告日 2021.08.13
(21)申请号 202022943908.X
(22)申请日 2020.12.10
(73)专利权人 长江存储科技有限责任公司
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