一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具.pdfVIP

下载本文档

3
0
约4.58千字
约 5页
2023-03-29 发布于四川
举报

一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具.pdf

本实用新型公开了一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具，所述半导体设备CVD装置喷头呈盆状，盆状喷头包括中间的铝材圆柱，底部的铝材底和顶部的铝材边沿，所述铝材底上开设有多个出水孔；所述高压水洗保护治具呈直角三角形结构，包括底板，竖板和斜板；所述斜板上开设有第一圆孔，所述第一圆孔的直径大于铝材圆柱外径小于铝材边沿外径；所述底板上开设有用于排水的第二圆孔；所述斜板底面两侧与底板顶面之间设置有两块垂直于竖板的支撑板，所述支撑板与竖板之间留有间隙；斜面设计可以使操作人员冲洗动作更加方便，水反溅也降

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214004774 U (45)授权公告日 2021.08.20 (21)申请号 202022797714.3 (22)申请日 2020.11.27 (73)专利权人上海富乐德智能科技发展有限公

您可能关注的文档

文档评论（0）

1亿VIP精品文档

更多 >

一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具.pdfVIP

一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具.pdf

您可能关注的文档

最近下载

文档评论（0）

1亿VIP精品文档

相关文档