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一种无掩膜光刻设备.pdfVIP

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  • 2023-03-29 发布于四川
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一种无掩膜光刻设备.pdf

    本申请适用于无掩膜光刻技术领域，提供了一种无掩膜光刻设备，设备包括照明装置、设置于照明装置的光路上的数字微镜器件、承载基板的载物台组件、设置于载物台组件和数字微镜器件之间的投影物镜，以及控制单元；数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，微反射镜单元反射的面阵光经过投影物镜后在基板上形成刻蚀光斑；各刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列，刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板；基板包括与载物台组件接触的第一底面、与第一底面相对且正对投影物镜的第二底面，以及平行于第二方向的第一侧面，载物台

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214011719 U (45)授权公告日 2021.08.20 (21)申请号 202022844337.4 (22)申请日 2020.11.30 (73)专利权人 广东思沃激光科技有限公司

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