半导体制造派工的优化方法及优化系统.pdfVIP

掌桥科研：一站式科研服务平台 掌桥科研：一站式科研服务平台 (19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102013043A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 102013043 A (43)申请公布 日 2011.04.13 (21)申请号 200910195186.X (22)申请 日 2009.09.04 (71)申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限 公司 地址 201203 上海市张江路18 号 (72)发明人 陈晓键 吴守杰 (74)专利代理机构 上海思微知识产权代理事务 所 (普通合伙) 31237 代理人 屈蘅 李时云 (51) Int.C l. G06Q 10/00 (2006.01) G06Q 50/00 (2006.01) H01L 21/00 (2006.01) 权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 2 页 (54) 发明名称 半导体制造派工的优化方法及优化系统 (57) 摘要 本发明公开了一种半导体制造派工的优化方 法及优化系统，所述优化方法，包括步骤 ：建立机 台以及在制品的信息表，得出离子源注入离子种 类派工；对所述在制品的Q-time 与第一预设值进 行比较 ；对所述在制品的数量与第二预设值进行 比较 ；对含有C 离子或Ge 离子的在制品连续派工 的数量与第三预设值进行比较 ；生成派工清单。 经过上述步骤优化得出的派工清单，依据所述派 工清单即可实现高效生产，而且，能够防止过多的 C 离子或者Ge 离子连续注入时在加速管内沉积下 来，从而减少离子注入机维护的次数，维护正常的 生产。 A 3 4 0 3 1 0 2 0 1 N C 掌桥科研官网拥有中外文期刊、会议、学位、报告、专利等文献超3亿篇，以及查收、查引、查重、翻译等多种服务 掌桥科研：一站式科研服务平台 掌桥科研：一站式科研服务平台 CN 102013043 A 权 利 要 求 书 CN 102013049 A 1/1 页 1. 一种半导体制造派工的优化方法，其特征在于，包括步骤 ： 建立机台以及在制品的信息表，得出离子源注入离子种类派工； 对所述在制品的Q-time 与第一预设值进行比较 ； 对所述在制品的数量与第二预设值进行比较 ； 对含有C 离子或Ge 离子的在制品连续派工的数量与第三预设值进行比较 ； 生成派工清单。 2. 如权利要求1 所述的优化方法，其特征在于：当所述在制品的Q-time 小于第一预 设值时， 如果所述在制品的数量大于第二预设值，则将所述在制品按照相同离子源，等级由 高到低的顺序派工； 如果所述在制品的数量小于第二预设值，则将所述在制品按照等级由高到低，相同 离子源的顺序派工。 3. 如权利要求1 所述的优化方法，其特征在于：当所述在制品的Q-time 大于第一预 设值时， 如果所述在制品的数量大于第二预设值，则将所述在制品按照等级由高到低，相同 离子源的顺序派工； 如果所述在制品的数量小于第二预设值，则将所述在制品按照相同离子源，等级由 高到低的顺序派工。 4. 一种半导体制造派工的优化系统，其特征在于，包括： 信息管理单元，用以存储机台以及在制品的信息； 派工信息处理单元，用以对所述信息管理单元内存储机台以及在制品的信息进行分 析，计算所述在制品的Q-time 以及数量，并进行比较 ； 派工输出单元，用以根据所述派工信息处理单元的比较