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- 2023-04-04 发布于四川
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本实用新型涉及磁控溅射技术领域，提出了旋转式多靶材磁控溅射阴极，包括阳极及磁铁组件，所述阳极上开设有溅射孔，所述磁铁组件与所述阳极之间设置有靶材支架及一组靶材，所述溅射孔与所述靶材之间形成溅射区，所述靶材设置在所述靶材支架上，所述靶材与所述磁铁组件大小适配，任一所述靶材借助所述靶材支架旋转至所述溅射区，只有旋转到磁铁组件正上方的靶材会发生磁控溅射，其他靶材因所处位置处磁场极弱、溅射气流不足，无法起辉溅射，解决了现有技术中一个溅射阴极只能固定一个靶材及无法同一位置溅射不同材料的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214088645 U
(45)授权公告日 2021.08.31
(21)申请号 202023140752.8
(22)申请日 2020.12.23
(73)专利权人 长沙元戎科技有限责任公司
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