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一种单晶炉漏硅后快速引流装置.pdfVIP

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  • 2023-04-04 发布于四川
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一种单晶炉漏硅后快速引流装置.pdf

    本实用新型公开一种单晶炉漏硅后快速引流装置，包括竖直通道、溢流槽和上盖，竖直通道的顶端与单晶炉炉底连通，竖直通道的底端与溢流槽连通，上盖安装于溢流槽上端面，且溢流槽内为真空腔。本申请公开的单晶炉漏硅后快速引流装置，在单晶炉炉底外围安装溢流槽，排气管道接竖直通道，竖直通道下面接溢流槽，溢流槽与整个炉体连接，当发生漏硅现象时，竖直通道将硅溶液引流至溢流槽，使硅熔液快速流入溢流槽内，不与通有冷却水的不锈钢接触，保证了硅熔液不融穿不锈钢炉底，避免冷却水泄漏瞬间汽化导致的锅炉内部压力迅速增加出现锅炉爆炸的

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214088735 U (45)授权公告日 2021.08.31 (21)申请号 202023348164.3 (22)申请日 2020.12.31 (73)专利权人 四川晶科能源有限公司

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