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- 2023-04-06 发布于四川
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本申请提供了一种清洗设备,属于半导体制造技术领域,清洗设备包括:机架;槽体,设于机架内;抽风系统,抽风系统包括:进风口,设于机架上,用于向机架的内部进风;出风口,和进风口设置在机架的同侧,并与进风口间隔设置;抽风道,抽风道连通进风口与出风口。本申请抽风道中气体流向一致,使得废气能够在第一时间排出到清洗设备外,保证了整体晶圆清洗工艺的效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215391305 U
(45)授权公告日 2022.01.04
(21)申请号 202121861979.3
(22)申请日 2021.08.10
(73)专利权人 常州捷佳创精密机械有限公司
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