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- 2023-04-07 发布于北京
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本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种真空镀膜设备，包括控制箱，所述控制箱的底部两侧均固定安装有支架，所述支架的底部固定安装有滚轮，所述控制箱的顶部固定安装有真空舱，所述真空舱的前侧固定安装有舱门，所述控制箱的内顶壁中部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有丝杠，所述丝杠的外侧固定安装有固定架。该真空镀膜设备，能够直接对基片架进行冷却，便于均匀的对基片架进行散热，散热速度较快，散热效果好，无需将基片架移出真空舱，从而提高了生产效率，能够带动滚轮从控制箱的内部收入或伸出，便于带动
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215440657 U
(45)授权公告日 2022.01.07
(21)申请号 202121739048.6
(22)申请日 2021.07.29
(73)专利权人 上海子微智能科技有限公司
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