电极极片、电化学装置和底涂装置.pdfVIP

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  • 2023-04-07 发布于北京
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本实用新型公开了一种电极极片、电化学装置和底涂装置,电极极片包括:集流体;活性物质层;以及导电层,导电层设置于集流体和活性物质层之间,导电层设置有凹痕,凹痕构造成由导电层与活性物质层接触的一面朝向与集流体接触的另一面凹陷设置。由此,通过在导电层上设置与活性物质层接触的一面朝向与集流体接触的另一面凹陷设置的凹痕,不仅可以提升集流体与活性物质层之间的导电性和黏合性,而且还可以提升对集流体的保护作用,从而可以提升电极极片的性能。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215451468 U (45)授权公告日 2022.01.07 (21)申请号 202121460184.1 (22)申请日 2021.06.28 (73)专利权人 比亚迪股份有限公司

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