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- 2023-04-09 发布于四川
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本实用新型提供了用于膜生产工艺中的涂布装置及涂布系统，包括主体组件、涂布组件、收集组件和第二辅助组件：所述主体组件包括第一壳体、第一通槽、基材、第一辊轴、第二辊轴、第一板体和T形通槽；所述第一壳体的两侧对称开设有两个第一通槽，所述第一通槽的内部设有基材；本实用新型中通过监控模块对基材的表面进行摄取，利用成像模块对摄取的图像进行选择性摘取，并通过分析模块对图像进行分析处理，分析处理的数据传递至中央控制模块，中央控制模块向报警模块传递信号，报警模块发出警报，使得基材表面涂布不均匀时可以及时发现，进而
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215465403 U
(45)授权公告日 2022.01.11
(21)申请号 202120839695.8 B05B 15/00 (2018.01)
(22)申请日 2
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