原创力文档- 25
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- 2023-04-15 发布于四川
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本实用新型公开了一种湿法刻蚀设备的管路结构，其特征在于，包括：至少一个药液储罐、共通排液管、药液回收管、补液管、供液管、供水管和刻蚀作业腔。本实用新型解决了在湿法蚀刻中如何解决药液对于硅的刻蚀速率不稳定的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215722568 U
(45)授权公告日 2022.02.01
(21)申请号 202121712483.X
(22)申请日 2021.07.27
(73)专利权人 上海华力集成电路制造有限公司
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