处理装置及成像设备.pdfVIP

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  • 2023-04-15 发布于北京
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本实用新型涉及成像设备技术领域,提供一种处理装置及成像设备,其中处理装置包括:显影模块,显影模块包括显影辊;感光模块,显影模块与感光模块转动连接,感光模块包括与显影辊平行设置的感光鼓;分离构件,设置在显影模块或感光模块上,分离构件上具有受力部,受力部上具有朝感光鼓方向设置的受力面,受力面为非平滑面。与现有技术相比,本实用新型中分离构件的受力面选用非平滑面,提高了受力面的摩擦系数,外部的分离施力构件在持续作用于受力面时不会发生打滑现象,防止分离构件在受力过程中出现脱离风险,保证了成像效果。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215729301 U (45)授权公告日 2022.02.01 (21)申请号 202121544684.3 (22)申请日 2021.07.07 (73)专利权人 珠海鼎龙汇通打印科技有限公司

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