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一种硅烷处理剂用均匀注入装置.pdfVIP

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  • 2023-04-16 发布于四川
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一种硅烷处理剂用均匀注入装置.pdf

    本实用新型公开了一种硅烷处理剂用均匀注入装置，包括主体和气泵，所述主体的外壁安装有气泵，所述气泵的外壁安装有气体管道，所述主体的内壁安装有下料腔，所述下料腔的内部顶壁安装有气压传感器，所述主体的顶端安装有控制器，所述下料腔的内部底壁开设有圆槽。本实用新型通过安装有气压传感器和圆槽来均匀注入硅烷处理剂，称量好的硅烷处理剂流入到下料腔内，气压传感器时刻检测下料腔内的气压情况，将检测到的信号传递给控制器，气压值发生变化时，控制器控制气泵向下料腔内充气，使得下料腔内的气压一直保持稳定，硅烷处理剂的流速就

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215707309 U (45)授权公告日 2022.02.01 (21)申请号 202122146553.6 (22)申请日 2021.09.07 (73)专利权人 上海铭杰化工科技有限公司

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