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- 2023-04-22 发布于四川
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本申请实施例提供了一种对位合成系统及对位合成方法，对位合成系统的移动组件用于将第一晶元单元RRR移动至激光工作模组，吸附台用于将第一晶元单元RRR吸附，并将空白的第四晶元单元WWW移动至吸附台的下方，以使得第一晶元单元RRR与第四晶元单元WWW对位合成第一中间晶元单元RWW；移动组件将第二晶元单元GGG移动至激光工作模组，吸附台将第二晶元单元GGG吸附，以使得第二晶元单元GGG与第一中间晶元单元RWW对位合成第二中间单元RGW；移动组件还用于将第三晶元单元BBB移动至激光工作模组，吸附台将第三晶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113937046 A
(43)申请公布日 2022.01.14
(21)申请号 202111065573.9
(22)申请日 2021.09.10
(71)申请人 苏州迈为科技股份有限公司
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