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一种可简便图案化的耐溶剂高介电常数绝缘层的制备方法.pdfVIP

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  • 2023-04-22 发布于北京
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一种可简便图案化的耐溶剂高介电常数绝缘层的制备方法.pdf

    本发明属于高分子电介质材料领域，公开了一种可简便图案化的耐溶剂高介电常数绝缘层材料及其制备方法。在聚合物中通过极性基团的加入增加材料内部的偶极极化从而达到增加聚合物介电常数的目的；通过引入具有光反应活性的基团使预聚物可以通过光固化技术固化成膜，且能通过控制曝光条件形成具有特定形状的精细图案；通过在较低的温度下实现抗溶剂型聚合物的制备。本发明制备绝缘层聚合物的整个制备过程简单、省时，且不需要高温固化，能在“卷对卷”印刷制造柔性薄膜晶体管中获得广泛应用。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113943436 A (43)申请公布日 2022.01.18 (21)申请号 202111149441.4 H01L 29/51 (2006.01)

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