磁记录材料分析和总结.docx

磁记录材料 磁记录材料 (magnetic record materials)磁记录是-种利用磁性物质作记录、存储和再生信息的技术。 磁记录材料即利用铁磁性原理有记录、存储和输出声音、图像、数字等信息功能的磁性合金。它包括磁记录介质和 磁头材料两类。磁记录材料的应用领域十分广泛，根据工作频率范围不同主要有磁录音、磁录像、磁录数(码)、磁 复制、磁印刷和磁照相等方面。 磁记录基本原理 在记录信息(声音、图像、数字)过程中，输入的信息先转变为相应的电信号，传送到记录 磁头的线圈中，在记录磁头气隙中产生与输入电信号相应的变化磁场，气隙附近并以恒定速度移动的磁带上的磁记 录介质受到该变化磁场的作用，从原来未存储信息的退磁状态转变到磁化状态，也就是将随时间变化的磁场转变为 按空间变化的磁化强度分布，磁带通过磁头以后转变到相应的剩磁状态，剩磁状态便记录下与气隙磁场、磁头电流 和输入电信号相应的信息。在磁带重放过程中，与上述磁记录过程相反，即磁带剩磁影响磁头气隙磁场，再到磁头 线圈中的电流，最后变成与原来记录相应的(声音、图像和数字)信息。 磁记录介质材料 一种涂敷在磁带、磁卡、磁盘和磁鼓上面用于记录和存储信息的永磁材料，它具有矫顽力 (Hc)和饱和磁感应强度(Bs)大、热稳定性好等特点。常用的介质有氧化物和金属材料两种。金属磁记录介质材料有 铁、钴、镍的合金粉末，用电镀化学和蒸发方法制成的钴-镍、钴-铬等磁性合金薄膜。合金粉末具有高灵敏度和高 分辨率等特点，但存在氧化问题。合金薄膜可以做得很薄，分辨率高，但膜面强度、耐磨性及化学稳定性存在一些 问题。因此，磁粉和薄膜在应用上均受到-定限制。虽然金属薄膜介质材料近年来已取得很大成果，但仍不能完全代 替磁粉介质材料。常用金属合金磁粉介质的主要性能与用途为： 薄膜介质材料的性能如表 1 所示。 表 1 金属连续薄膜介质材料的性能 磁头材料 用做磁头材料的合金应具有以下特点：(1)饱和磁感应强度(Bs)高，以提高磁头气隙磁场，增强 磁记录介质的磁化强度，避免磁头极尖的饱和现象。(2)在使用频率内，导磁率(μ 1)高，以提高重放灵敏度和信噪 比(S/N)，减少记录磁头的输入功率，增加磁头气隙磁场。(3)矫顽力(Hc)小，剩磁(Br)小，以便减少磁化噪音和磁 滞损耗。(4)电阻率(p)高，减少记录和重放时的涡流损失，改善高频特性。(5)磁致伸缩系数(λ s)小，避免树脂封 接后的性能恶化，减少噪声。(6)磁性温度稳定性和时间稳定性好。(7)耐磨性和耐腐蚀性好，保证磁头使用寿命。 (8)必须具有良好的加工性，不仅能满足高精度成形的要求，还能适合大批量机械化生产，且成本低。磁头材料主要 有磁性合金和软磁薄膜两种。 磁头用的磁性合金 除铁氧体外，有铁-镍系坡莫合金(Fe-Ni 系)。森达斯特(FeSiAl)(Sendust)，铁基超微 晶合金，钴基非晶合金和铁铝系合金(Fe-A1 系)等。表 2 给出几种磁性合金及其主要性能。 表 2 几种磁性合金及其主要性能 软磁薄膜 随着磁记录技术不断向高频化、高密度化方向发展，上述单-整体块状磁头或复合块状磁头均不 能满足发展需要，故又开发了合金薄膜材料：如用电镀法、蒸发法、溅射法等制作的数微米厚的薄膜磁头材料，人 工晶格多层膜磁头材料等。用薄膜可使磁头磁迹、磁头缝隙更窄，表 3 示出磁头薄膜及其主要性能。 表 3 磁头用软磁薄膜及其主要性能 展望 磁记录密度将向大容量、小型化和高速化方向发展。为适应这一要求，将开发-系列磁带用精细颗粒 薄膜磁记录介质和高饱和磁感应强度、导磁率高、密度高的磁头材料，为了得到更好的磁记录效果，这两种材料均 不断向薄膜化方向发展。如图为随着磁记录密度的提高，磁介质和磁头材料的发展趋势。