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不同偏度砷化镓籽晶加工及砷化镓单晶的制备方法,涉及半导体晶体生长领域,尤其是一种砷化镓单晶的制备技术。本发明的方法包括了籽晶胚的加工和定向、籽晶抛光和清洗、单晶生长等步骤,其中,钻取种子胚大小适中,种子胚比种子小嘴内径小0.025mm‑0.76mm。抛光剂采用溴素和乙醇按体积比2:1‑1:4进行配置。本发明的优点是不同偏角度(100)到(111)偏0°、2°、6°、10°和15°的籽晶生长的砷化镓单晶体与国家标准(GB/T30856‑2014)对位错的要求相比,其位错非常低、结晶度高。最主要的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113981523 A
(43)申请公布日 2022.01.28
(21)申请号 202111179012.1 C30B 29/42 (2006.01)
(22)申请日 2
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