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本发明公开了一种异质外延单晶金刚石复制生长方法,在第一异质外延衬底上制备晶向为(001)的第一Ir膜层;在第一Ir膜层的第一表面制备出(001)方向的第一外延金刚石核;使第一外延金刚石核外延生长,在第一Ir膜层的第一表面上形成(001)方向的第一单晶金刚石,得到第二外延衬底;清洗第二外延衬底,得到Ir/Dianomd衬底;在第一Ir膜层的第二表面上制备第二外延金刚石核;使第二外延金刚石核在MP‑CVD中生长,得到第二单晶金刚石;本发明中衬底以及生长层均为单晶金刚石,具有相同的热膨胀系数,利用异质
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114016128 A
(43)申请公布日 2022.02.08
(21)申请号 202111228647.6 C23C 16/02 (2006.01)
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