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本申请公开一种清洗装置。所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构。所公开的清洗装置包括装置主体和调节件,装置主体设有进水口和与进水口连通的过水空间,调节件与装置主体相连,且调节件与装置主体形成水幕喷射缝隙,水幕喷射缝隙与过水空间连通;调节件可相对于装置主体具有多个相对位置,调节件处在不同的相对位置时与装置主体形成的水幕喷射缝隙的第一尺寸均不相等,第一尺寸为调节件与装置主体用于形成水幕喷射缝隙的部位之间的距离。上述方案能解决相关技术涉及的清洗装置存在的水幕喷射缝隙无法较好地适应不同供水场景下的清洗任务
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115995409 A
(43)申请公布日 2023.04.21
(21)申请号 202310108974.0
(22)申请日 2023.01.31
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
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